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Uma revisão do progresso recente em retardadores de chama baseados em fósforo

2023-07-03

Os trabalhos recentes de patentes e técnicos indicam um interesse crescente em soluções livres de halogênio, com a predominância da literatura com foco em retardadores de chama baseados em fósforo. As patentes publicadas sobre a retardação de policarbonato de chama e suas misturas excedem significativamente o número de patentes sobre retardância de chama de qualquer outro polímero. Fosfatos de difenil aromático em ponte, especialmente resorcinol bis (difenil fosfato) e bisfenol A Bis (difenil fosfato) encontraram ampla aplicação devido à sua boa estabilidade térmica, alta eficiência e baixa volatilidade.

Outro grupo de compostos relatados ativamente são os sais de metal de ácido dialquilfosfônico, bem como a hipofosfita de cálcio, que recentemente foram considerados particularmente eficazes em poli (tereftalato de butileno) e policarbonato. Esses produtos são sinérgicos com vários compostos contendo fósforo e nitrogênio, como sais de melamina, que parecem ser muito eficientes e comercialmente úteis em nylons.

As placas de fiação impressas compreendem o maior mercado de materiais poliméricos retardantes da chama. Recentemente, tem havido um forte interesse em soluções livres de halogênio no leste da Ásia e na Europa. Uma introdução recente livre de halogênio é o 9,10-di-hidro-9-oxa-10-fosffenantreno-10-óxido, que pode ser reagido em epóxias. Outro produto reativo com algumas vantagens de processamento e propriedade é o poli (m-fenileno metilfosfonato).

Devido à proibição do éter pentabromodifenil na Europa e à retirada voluntária deste produto do mercado nos EUA, a indústria de poliuretano (PU) está procurando uma alternativa de baixa escorça mais ambientalmente aceitável. Soluções halogenadas e sem halogênio estão sendo consideradas, mas a indústria de PU parece ter uma preferência pelos produtos livres de halogênio, geralmente contendo fósforo.


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