O silicone é ecológico, amplamente disponível na natureza e é fácil de preparar retardador de chama. A camada de cinzas de sílica também pode impedir que o oxigênio atinja a matriz. Um novo, retardador de chama simples e de baixo custo contendo fósforo, nitrogênio e silício foi sintetizado [17]. O LOI foi melhorado de 18,0 para 27,1, o ângulo de recuperação de rugas aumentou de 800 para 980. Um novo retardador de chama ternário-nitrogênio-nitrogênio fosforador (FR), [(1,1,3,3-tetrametil-1,3-disilazanediil) di di. -2,1-etanediil] bis (óxido de difenilfosfina) (psin) foi sintetizado. Uma classificação UL 94 V-0 foi alcançada com 20 % em peso de PSIN nos compósitos epóxi. A sílica tendia a migrar para a superfície do polímero para sua baixa energia superficial.
Os componentes de nitrogênio se transformaram em gás no processo de combustão. Os componentes de fósforo desempenharam um papel de FR na fase condensada e na fase gasosa. Todos os resultados indicaram que o FR ternário P-Si-n atual pode ser um bom candidato a retardamento de chama epóxi [18]. Três novos monômeros retardadores de chama baseados em fósforo foram preparados com sucesso reagindo 1- (acriloilloxia) -3- (Metacriloilloxia) -2-propanol (AHM) com hexaclorociclotrifosfazeno. Com o auxílio de um iniciador fotográfico e um sistema de cura de inundação de UV, esses monômeros foram curados em substratos celulósicos para gerar revestimentos retardadores de chama. Todos os três monômeros formaram revestimentos sob condições de UV na presença do iniciador fotográfico que eram duráveis à extração. Apenas 15 % desses monômeros foram necessários para impedir que os substratos se juntassem nas orientações horizontais, 450 e verticais [19]. Recentemente, os monômeros contendo silício usaram com sucesso como HF FRS do tipo reativo, especialmente os silsesquioxanos oligoméricos poliédricos (POSS), devido ao seu notável efeito de reforço [20].
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